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KLA-Tencor推出光刻优化工具 降低 RET/OPC成本

2018-08-19 -点击次数:74 -
KLA-Tenco推出基于Linux的新型产品LithoWare,该系统可帮助半导体电路设计人员大幅度降低RET*和OPC*工艺开发的时间和成本...
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